En parallèle de l’inauguration d’une nouvelle usine de fabrication de modules NAND 25 nm, Intel et Micron au traver d’IM Flash Technologies annonce la mise au point d’un processus de gravure à 20 nm.
Cette étape vers l’infini petit ouvre de nouvelles perspectives pour le monde nomade tel que les smartphones et tablettes. Avec une gravure à 20 nm il est possible de faire tenir 128 Go dans une unité de la taille d’un timbre poste. La fabrication se veut également moins couteuse grâce à la rationalisation des besoins.
Appliquée à la mémoire flash, cette technologie à 20 nm occupe 30% à 40% d’espace en moins qu’une gravure à 25 nm à capacité égale tout en diminuant les couts de fabrication pour trois.
Tout ceci n’est qu’une étape, l’entreprise se prépare déjà à la maitrise d’un processus à 16nm.
